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  硬質(zhì)陽極氧化設(shè)備涉及哪些因素?H2SO4濃度。H2SO4濃度會對阻擋層厚度、溶液電導(dǎo)率、硬質(zhì)陽極氧化設(shè)備漆膜的耐腐蝕性和耐磨性以及后處理后的密封質(zhì)量產(chǎn)生一定的影響。H2SO4濃度阻擋層的厚度保持耐電壓腐蝕和耐磨性。氣化膜質(zhì)量灰白疏松，膜孔外徑大，密封困難。在浴槽溫度硬質(zhì)陽極氧化設(shè)備的過程中，部分電能將轉(zhuǎn)化為熱能，浴液溫度將繼續(xù)上升。隨著溫度的升高，薄膜損耗增加，薄膜質(zhì)量變差，耐磨性降低。特別是對于15um以上的膠片，即使在空氣中，也會出現(xiàn)粉化現(xiàn)象。因此，有必要冷卻浴液以保持適當(dāng)?shù)臏囟?。一般而言，隨著鍍液溫度的升高，硬質(zhì)陽極氧化膜的重量減輕，膜層變得柔軟明亮。

  鍍液溫度高時(shí)，氧化膜外層的孔徑和程度變大，密封困難，容易產(chǎn)生密封粉末。當(dāng)鍍液溫度較高時(shí)，硬質(zhì)陽極氧化膜容易染色。但是，很難保持相同的顏色深度。因此，染色膜硬質(zhì)陽極氧化溫度一般為20~25℃。當(dāng)溫度降低時(shí)，氧化膜硬度高，耐磨性好。在硬質(zhì)陽極氧化過程中，維持電流密度所需的電壓高，能耗高。因此，常用的硬質(zhì)陽極氧化方法為18~22℃。

  硬質(zhì)陽極氧化電壓決定了氧化膜的孔徑，表明低壓形成的膜孔徑小，孔數(shù)大，高壓形成的膜孔徑大，孔數(shù)少。在一定范圍內(nèi)，高壓有利于形成致密均勻的膜。